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日立高新磁控濺射器

產品時間:2022-05-07

簡要描述:

日立高新磁控濺射器
采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件

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日立高新磁控濺射器MC1000

日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極,能夠最大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

  • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大樣品直徑:60 mm

  • 日立高新磁控濺射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大樣品高度:20 mm

 日立高新磁控濺射器

特點:

  • 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件

  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

  • 記憶功能可存儲常用加工條件

規格:

日立科學儀器有限公司為您提供日立高新磁控濺射器MC1000的參數、價格、型號、原理等信息,日立高新磁控濺射器MC1000產地為日本、品牌為日立,型號為MC1000,價格為面議,更多相關信息可,公司客服電話7*24小時為您服務


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